涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面，清洗，运行涂层工艺，PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却，其中采用程序软件进行自动控制，要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯，PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象，根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理，以改善表面的光洁度，也可以对产品进行退磁处理，以防止加工铁屑的粘附倾向。
硬度条件，为使PVD处理得到稳定的效果，精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48，否则在使用时会造成压塌现象，基体发生塑性变形，进而引起涂层剥落，温度条件，涂层终末处理温度不得低于360℃，一旦低于此温度，沉积层性能就恶化，故不能用于低温回火材料，凡是在热处理后进行表面处理，其处理温度低于基体的回火温度，如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用，不宜采用PVD法处理，因为处理温度高于回火温度，将导致基体材料软化。
大颗粒密度由无挡板时的2，3x105/mm2降低至1，4x103/mm2，至大颗粒尺寸在2μm以下，而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大，但安装挡板后，除沉积速率下降外，PVD涂层的性能也受影响，空心阴极技术，在电弧离子镀沉积PVD涂层时，引入空心阴极发射的电子束，使制备的涂层大颗粒尺寸减小，但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置，利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离，将等离子体引入沉积室的方法，取得了较好的效果，但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。