在等离子体蚀刻工艺中，也称为干蚀刻，使用等离子体或蚀刻气体来去除衬底材料，干蚀刻会产生气态产物，这些产物应扩散到大量气体中并通过真空系统排出，干蚀刻有三种类型（例如等离子蚀刻）：化学反应（通过使用反应性等离子体或气体），物理去除（通常通过动量传递）以及化学反应和物理去除的组合，干蚀刻：利用不易被物理、化学作用破坏的物质光阻来阻挡不欲去除的部分，利用电浆的离子轰击效应和化学反应去掉想去除的部分，从而将所需要的线路图形留在玻璃基板上。
传统的蚀刻工艺因为存在技术落后、生产成本高、严重的污染问题，guo家在环保政策的要求下强势淘汰传统工艺，整个蚀刻行业亟需解决行业升级、技术换代的问题，且迫在眉睫，蚀刻优版创新技术应运而生，微加工过程中有很多加工步骤，现代工艺上，不锈钢蚀刻板针对高精密、精细化的产品上无法满足，其蚀刻工艺手段非常适用对精密化产品，比如汽车机械部件、垫片和间隔垫圈、高性能密封垫片、各种过滤网片，电动汽车电池片，汽车喇叭网上均采用蚀刻工艺。
现在可以对涂覆的晶片进行湿法蚀刻以将所需的图案雕刻到晶片中，各向同性蚀刻，即在所有方向上均相等的蚀刻，是指基材的方向不影响蚀刻剂去除材料的方式，如果允许蚀刻剂反应足够长的时间，如图1所示，蚀刻剂将蚀刻掉称为掩模底切的掩模下的基板材料，可以通过在底切掩模前先冲洗掉蚀刻剂，然后在通道上施加光刻胶来避免这种情况，加工出来的产品没有毛刺，没有脏污，表面更是光滑，蚀刻加工是其他机械的工艺都无法加工的高精密产品。
