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南昌铝板蚀刻加工

 
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所在地: 四川 成都市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-05-27 18:24
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公司基本资料信息
详细说明
fiocux

在等离子体蚀刻工艺中,也称为干蚀刻,使用等离子体或蚀刻气体来去除衬底材料,干蚀刻会产生气态产物,这些产物应扩散到大量气体中并通过真空系统排出,干蚀刻有三种类型(例如等离子蚀刻):化学反应(通过使用反应性等离子体或气体),物理去除(通常通过动量传递)以及化学反应和物理去除的组合,干蚀刻:利用不易被物理、化学作用破坏的物质光阻来阻挡不欲去除的部分,利用电浆的离子轰击效应和化学反应去掉想去除的部分,从而将所需要的线路图形留在玻璃基板上。

缺点包括许多化学废物,其中许多是高酸性和多步过程,在蚀刻之前,需要掩盖衬底的区域以获得器件所需的详细功能,在称为光刻的过程中,将光敏光刻胶旋涂到晶圆上,然后将晶片预烘烤以除去光刻胶中多余的溶剂,然后将具有所需特征的切口的掩模放置在光致抗蚀剂的顶部,并使用紫外光固化任何曝光的光致抗蚀剂,当将腐蚀剂(一种腐蚀性化学品)施加到被掩膜的晶圆上时,在所有方向上未被掩膜覆盖的区域中,蚀刻会以相同的速率发生,从而产生倒圆的边缘。

现在可以对涂覆的晶片进行湿法蚀刻以将所需的图案雕刻到晶片中,各向同性蚀刻,即在所有方向上均相等的蚀刻,是指基材的方向不影响蚀刻剂去除材料的方式,如果允许蚀刻剂反应足够长的时间,如图1所示,蚀刻剂将蚀刻掉称为掩模底切的掩模下的基板材料,可以通过在底切掩模前先冲洗掉蚀刻剂,然后在通道上施加光刻胶来避免这种情况,加工出来的产品没有毛刺,没有脏污,表面更是光滑,蚀刻加工是其他机械的工艺都无法加工的高精密产品。

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