涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面,清洗,运行涂层工艺,PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却,其中采用程序软件进行自动控制,要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯,PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象,根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理,以改善表面的光洁度,也可以对产品进行退磁处理,以防止加工铁屑的粘附倾向。
硬度条件,为使PVD处理得到稳定的效果,精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48,否则在使用时会造成压塌现象,基体发生塑性变形,进而引起涂层剥落,温度条件,涂层终末处理温度不得低于360℃,一旦低于此温度,沉积层性能就恶化,故不能用于低温回火材料,凡是在热处理后进行表面处理,其处理温度低于基体的回火温度,如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用,不宜采用PVD法处理,因为处理温度高于回火温度,将导致基体材料软化。
大颗粒密度由无挡板时的2,3x105/mm2降低至1,4x103/mm2,至大颗粒尺寸在2μm以下,而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大,但安装挡板后,除沉积速率下降外,PVD涂层的性能也受影响,空心阴极技术,在电弧离子镀沉积PVD涂层时,引入空心阴极发射的电子束,使制备的涂层大颗粒尺寸减小,但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置,利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离,将等离子体引入沉积室的方法,取得了较好的效果,但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。