涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面，清洗，运行涂层工艺，PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却，其中采用程序软件进行自动控制，要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯，PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象，根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理，以改善表面的光洁度，也可以对产品进行退磁处理，以防止加工铁屑的粘附倾向。
脱膜处理，一般按照要求的配比进行脱膜，启动脱膜工艺前要确认工艺参数是否符合要求，避免对基体材质造成损伤，前处理，其中关键的质量控制点是二人确认程序质量管理制度，基体材料的质量和洁净度很大程度上决定了涂层的质量，判定涂层好坏的标准有其表面的粗糙度，其表面的粗糙度很大程度上取决于所处理基体材料表面的粗糙度，因为对于薄膜材料它的组织结构为仿型组织结构，此道工序的主要任务是对涂层前的工件表面进行清洗，剔除表面的异物包括油污、重度粒子等。
硬度条件，为使PVD处理得到稳定的效果，精冲模具基体材料的硬度应不低于HRC48，否则在使用时会造成压塌现象，基体发生塑性变形，进而引起涂层剥落，温度条件，涂层终末处理温度不得低于360℃，一旦低于此温度，沉积层性能就恶化，故不能用于低温回火材料，凡是在热处理后进行表面处理，其处理温度低于基体的回火温度，如碳素模具钢、低合金模具钢在低温回火态使用，不宜采用PVD法处理，因为处理温度高于回火温度，将导致基体材料软化。